Научные и прикладные результаты лаборатории 172021Механизм увеличения яркости пучка при ВКР-генерации в многомодовом градиентном световоде с диодной накачкойПродемонстрировано ВКР-преобразование сильно-многомодового излучения диодной накачки с улучшением параметра качества пучка M2 с ~30 до ~2 и 1.3 для 1 и 2 стоксова порядка соответственно, а яркость генерируемого пучка по сравнению с накачкой увеличивается в 73 раза (рекордное значение для лазеров данного типа) при выходной мощности >50 Вт на 976 нм. При этом профиль пучка накачки до порога генерации соответствует профилю градиентного световода (ГС), а выше порога в его центральной области формируется провал с шириной значительно большей ширины стоксовых пучков, форма которых близка к гауссовой и практически не меняется с ростом мощности. Построена модель связанных мод с учетом основных физических процессов в ВКР-лазере. Сравнение с экспериментом показало, что помимо процесса ВКР на формирование стоксова пучка принципиальное влияние оказывают эффекты случайной и нелинейной связи поперечных мод при его распространении в 1-км ГС, а также селективное по модам отражение от выходной ВБР, записанной фс-импульсами в приосевой области ГС, а на пучок накачки эти эффекты оказывают слабое влияние. В результате впервые описан эффект увеличения интенсивности стоксова пучка по сравнению с накачкой, рис.1. Рис. 1. Профили пучков генерируемого стоксова излучения (красный) и накачки (на входе –синий, на выходе – черный, без учета истощения –шриховой) многомодового ВКР-лазера с ГВС в теории и в эксперименте вместе с поперечными сечениями пучков стоксова излучения (вверху) и накачки (внизу). Работа выполнена при финансовой поддержке РНФ (грант 21-72-30024). Публикации
Наноструктурирование поверхности аморфного и кристаллического кремния фемтосекундными лазерными импульсамиПродемонстрировано формирование решеток с субволновым периодом на поверхности аморфного (а-Si) и кристаллического (c-Si) кремния лазерными фс импульсами с длиной волны 1026 нм при латеральном сканированием поверхности образцов. В случае пленок а-Si впервые получен новый тип структур – гексагональная решетка конусообразных выступов SiO2 с периодом ~980 нм, чередующихся с подповерхностными включениями поликристаллической фазы Si (Рис. 1 a-в), – что позволило существенно изменить оптические свойства пленки (снижение коэффициента отражения с ~50% до <2% в видимом диапазоне (Рис. 1 г)). Впервые продемонстрировано применение лазерно-индуцированных структур для повышения чувствительности метода флуоресцентной спектроскопии на два порядка, по сравнению со стандартными подходами измерения концентрации аналита. Достигнут режим лазерно-индуцированной кристаллизации пленки a-Si без изменения исходной морфологии поверхности при скорости сканирования 1 мм/с (Рис. 1 д). Для c-Si разработана методика создания массива углублений с периодом 450±5 нм и аспектным соотношением равным 8 путем использования покрывающей пленки гафния толщиной 20 нм, обеспечивающей эффективное возбуждение поверхностных плазмонов (Рис. 1 e, ж). Рис. 1. (a) Микрофотографии гексагональной решетки микроконусов, записанной на пленке a-Si толщиной 370 нм, и (б) поперечного выреза данной структуры; (в) микрофотографии структур, записанных на пленке a-Si при различных скоростях сканирования, (г) спектры отражения соответствующих структур; (д) оптические снимки в проходящем и отраженном свете области лазерно-индуцированного поликристаллического кремния; (e) микрофотографии решетки, записанной на пластине c-Si, покрытой 20 нм слоем Hf и (ж) поперечного выреза данной решетки. Работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (№19-32-90235) и РНФ (№21-72-20162). Публикации
|